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上海市电子学会编。
上海科学技术文献出版社1981年2月版。19万字。收译文17篇。第一篇至第八篇及第十七篇是有关存贮器、微处理机、模拟集成电路及大规模集成电路新结构方面进展的文章。第九篇至第十六篇是集成电路制作工艺方面的文章，包括激光退火、X射线光刻、等离子体腐蚀、离子磨削等。
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