AMDIS-1型掩模缺陷自动检测系统中国科学院光电技术研究所林祥棣等研制。采用双光路光电图形自动探测技术，利用掩模上相同的分步重复图形自动互相比较原理，提取差异信息作缺陷判断依据。由光机电及计算机系统构成双路光电扫描图像信息的全动态探测仪器。探测概率： 掩模缺陷尺寸>1.5微米为99.5%，掩模缺陷尺寸>1.0微米～1.4微米为90%，掩模缺陷尺寸<1.0微米为70%; 自动检测速度<0.9分钟/平方厘米。适用于>2微米线宽的LVSI制造中掩模外观缺陷的自动检测。该系统的研制成功填补了中国微电子领域中关键的质量监控和在线检测大型仪器设备的空白。获1992年中国科学院科技进步一等奖。 |